光刻机专业应该学什么

1. 光刻机专业应该学什么

光刻机涉及到的知识有光学、机械加工、电子电路、化学等多个学科知识。可学电子技术类专业，比如微电子与固体电子专业。                    扩展资料                      光刻机又名：掩模对准曝光机，曝光系统，光刻系统等，是制造芯片的核心装备。它采用类似照片冲印的技术，把掩膜版上的精细图形通过光线的曝光印制到硅片上。

2. 研究光刻机应该学什么专业?

研究光刻机应该学光电，或者（应用）物理（传统光学方向）都可以。
光刻机的研发本来就是集光学，电子，机械，软件，算法，物理，微电子等多学科为一体的，大部分理工科都可以在这个学科中找到对应的职位。
先进光刻机荷兰ASML一家独大，在中国的研发也比较少（上海和深圳有，但偏重软件方向），大部分都是装机修机现场服务技术支持。你要做研发，先考上至少985的本科，再读硕士，这是最起码的。
如果你要去美国或荷兰的ASML工资，如果是非计算机专业，最好去欧美读到博士。如果你只是硕士，最好读计算机方向。因为在光刻机的研发中，对软件的学历门槛是最低的（牛逼的学CS的都去互联网了，来你硬件公司干啥）。

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我是集成电路专业的，大家都知道光刻机用于芯片制造，可是大学里面集成电路专业一般来说有两个方向，一个是电路方向，一个是器件方向。
这两个方向都会学集成电路工艺基础课，但是都是宏观介绍一下，涉及到光刻部分也就给你看看图片。电路方向的话是不会见到真光刻机的，器件方向会着重教你如何去使用光刻机制作微电子器件，但是也不会教你去设计光刻机。

3. 研究光刻机得学什么专业

光刻机涉及到的知识有光学、机械加工、电子电路、化学等多个学科知识。可学电子技术类专业，比如微电子与固体电子专业。                    扩展资料                      光刻机又名：掩模对准曝光机，曝光系统，光刻系统等，是制造芯片的核心装备。它采用类似照片冲印的技术，把掩膜版上的`精细图形通过光线的曝光印制到硅片上。

4. 光刻机是干什么用的

刻机是用来制造芯片的。光刻机又被称为掩膜对准曝光机，在芯片生产中用于光刻工艺，而光刻工艺又是生产流程中最关键的一步，所以光刻机又是芯片生产中不可缺少的设备。

光刻机是干什么用的

光刻机决定了芯片的精密尺寸，设计师设计好芯片线路，在通过光刻机将线路刻在芯片上，其尺度通常在微米级以上。

光刻机是芯片生产中最昂贵也是技术难度最大的设备，因为其决定了一块芯片的整体框架与功能。

其实生产高精度芯片并不难，只是生产速度太慢，而光刻机能快速生产高精度的芯片，所以很重要。

5. 光刻机是干什么用的？

什么是光刻机？国产芯片发展如何？

6. 光刻机是干什么用的

光刻机就是用光来雕刻的机器，是用来实现光线侵蚀光刻胶的目的。所以说，光刻机就是把很大的电路图，通过透镜缩小到芯片那么大，然后用光线侵蚀掉光刻胶，达到自动形成电路的目的。
光刻机是非常复杂的机械，目前最厉害的光刻机生产商就是荷兰的ASML，他们现在已经能够生产刻出5nm线路的光刻机了。

光刻机的分类
光刻机一般根据操作的简便性分为三种，手动、半自动、全自动。
手动：指的是对准的调节方式，是通过手调旋钮改变它的X轴，Y轴和thita角度来完成对准，对准精度不高。
半自动：指的是对准可以通过电动轴根据CCD的进行定位调谐。
自动：指的是从基板的上载下载，曝光时长和循环都是通过程序控制，自动光刻机主要是满足工厂对于处理量的需要。

7. 光刻机是干什么用的?

光刻机（Mask Aligner）又名：掩模对准曝光机，曝光系统，光刻系统等，是制造芯片的核心装备。它采用类似照片冲印的技术，把掩膜版上的精细图形通过光线的曝光印制到硅片上。



光刻机一般根据操作的简便性分为三种，手动、半自动、全自动
A手动：指的是对准的调节方式，是通过手调旋钮改变它的X轴，Y轴和thita角度来完成对准，对准精度可想而知不高了。
B半自动：指的是对准可以通过电动轴根据CCD的进行定位调谐。
C自动：指的是从基板的上载下载，曝光时长和循环都是通过程序控制，自动光刻机主要是满足工厂对于处理量的需要。

8. 什么是光刻机

光刻机又名掩模对准曝光机、曝光系统、光刻系统等，是制造芯片的核心装备。它采用类似照片冲印的技术，把掩膜版上的精细图形通过光线的曝光印制到硅片上。光刻机的种类可分为：接触式曝光、接近式曝光、投影式曝光。

　　光刻机的工作原理是通过一系列的光源能量、形状控制手段，将光束透射过画着线路图的掩模，经物镜补偿各种光学误差，将线路图成比例缩小后映射到硅片上。然后使用化学方法显影，得到刻在硅片上的电路图。

　　一般的光刻工艺要经历硅片表面清洗烘干、涂底、旋涂光刻胶、软烘、对准曝光、后烘、显影、硬烘、激光刻蚀等工序。光刻机的制造和维护需要高度的光学和电子工业基础，因此，世界上只有少数厂家掌握。

　　光刻机的品牌众多，根据采用不同技术路线的可以归纳成如下几类：高端的投影式光刻机可分为步进投影和扫描投影光刻机两种，分辨率通常七纳米至几微米之间，高端光刻机号称世界上最精密的仪器，世界上已有1.2亿美金一台的光刻机。高端光刻机堪称现代光学工业之花，其制造难度之大，全世界只有少数几家公司能够制造。国外品牌主要以荷兰ASML，日本Nikon和日本Canon三大品牌为主。