28纳米光刻机如何制造7纳米芯片?

1. 28纳米光刻机如何制造7纳米芯片?

你好很高兴为您解答[开心]光刻制程本身就是一种多重配套制造流程，包括多重黄光和光胶，脱离以及再生过程等等，需要芯片设计软件搭配。
如果芯片设计上以28纳米光刻设备配合适当的7纳米缩影光罩和胶片缩影，还有所有配套齐全时，（非行业内人士很难理解光罩的作用）代用实验制程但非14纳米量产制程，可以在部分芯片的电路位置做出7纳米的线路，但不能量产和非全面的14纳米制程。【摘要】
28纳米光刻机如何制造7纳米芯片?【提问】
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你好很高兴为您解答[开心]光刻制程本身就是一种多重配套制造流程，包括多重黄光和光胶，脱离以及再生过程等等，需要芯片设计软件搭配。
如果芯片设计上以28纳米光刻设备配合适当的7纳米缩影光罩和胶片缩影，还有所有配套齐全时，（非行业内人士很难理解光罩的作用）代用实验制程但非14纳米量产制程，可以在部分芯片的电路位置做出7纳米的线路，但不能量产和非全面的14纳米制程。【回答】
光刻机（Mask Aligner）又名：掩模对准曝光机，曝光系统，光刻系统等，是制造芯片的核心装备。它采用类似照片冲印的技术，把掩膜版上的精细图形通过光线的曝光印制到硅片上【回答】
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